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Investigadores del Instituto de Tecnología de Massachusetts dicen que han logrado avances con la tecnología de la luz que eventualmente podría ayudar a los fabricantes de chips a crear circuitos más finos. Los investigadores han encontrado una manera de enfocar un haz de luz en una escala mucho más pequeña que la anteriormente era posible, permitiendo a los fabricantes de chips grabar incluso circuitos más pequeños en sus chips, dijo Rajesh Menon, ingeniero de investigación en el departamento de ingeniería eléctrica e informática de MIT.
Los fabricantes de chips dependen de la luz para dibujar patrones de circuitos en chips, pero la mayoría las técnicas utilizadas hoy en día no pueden producir patrones que sean más pequeños que la longitud de onda de la luz misma.
Los investigadores del MIT encontraron una manera de dibujar líneas extremadamente estrechas combinando haces de luz en diff nuevas longitudes de onda. Utilizaron los llamados patrones de interferencia, en los que diferentes longitudes de onda de luz a veces se refuerzan mutuamente, y en otros lugares se cancelan mutuamente.
Dicen que la técnica, que todavía está a varios años de uso comercial, podría permitir a los fabricantes de chips para construir interconexiones y transistores tan estrechos como una sola molécula, o solo de dos a tres nanómetros.
"Si haces tus transistores más pequeños, normalmente funcionan más rápido, obtienes más funcionalidad" y el costo de fabricación de cada chip disminuye, Dijo Menon.
Los fabricantes de chips como Intel y Advanced Micro Devices están constantemente construyendo transistores cada vez más pequeños para obtener un rendimiento más rápido y utilizar menos energía. Por lo general, graban diseños de chips en un material de vidrio llamado photomask, que luego se utiliza para replicar el patrón en obleas de silicio.
"Lo que Intel hace es replicación de patrones. Tienes un patrón y se replica" desde una fotomáscara directamente en las fichas, dijo Menon. El enfoque de Intel implica el uso de electrones, mientras que el enfoque de MIT implica la creación directa de patrones a través de fuentes de luz, que dice que puede ser más preciso y proporciona la flexibilidad de cambiar diseños rápidamente.
"Si haces patrones con haces de electrones, siempre tendrás que Preocuparse por la precisión. Sus patrones podrían distorsionarse levemente, lo que podría tener un gran impacto en el rendimiento del dispositivo. Los fotones irán adonde usted les indique que vayan, mientras que los electrones no lo harán a la escala nanométrica ", dijo Menon.
Mientras los investigadores logró producir líneas de 36 nanómetros de ancho, Menon reconoció que la tecnología podría golpear una pared cuando llegue a la escala atómica. "La pregunta entonces es: ¿puedes hacer que la molécula sea más pequeña? Probablemente estás limitado", dijo Menon.
La tecnología podría comercializarse en unos cinco años a través de un spin-off de MIT llamado Lumarray, según Menon.
"Es una salida, ya que tenemos que resolver algunos problemas materiales y técnicos", dijo.
Se iba a publicar un artículo sobre la investigación en la edición del viernes de Science.
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